SECTIE G         FYSICA

              Aantekeningen

 

(1)        In deze Sectie owrdt de volgende uitdrukking gebruikt met de aangegevens betekenis:

-        “variabele” (als een zelfstand naamwoord) betekent een kenmerk of eigenschap (bijv. een dimensie, een fysische toestand zoals temperatuur, een kwaliteit zoals dichtheid of kleur), die met betrekking tot een bepaalde entiteit (bijv. een object, een hoeveelheid van een substantie, een lichtstraal) en op een bepaald ogenblik, kan worden gemeten; de variabele kan veranderen, zodat de numerieke uitdrukking ervan verschillende waarden op verschillende tijden, onder verschillende condities of in afzonderlijke gevallen kan aannemen, maar kan constant zijn met betrekking tot een specifieke entiteit onder bepaalde omstandigheden of voor specifieke doeleinden (bijv. de lengte van een staaf mag als constant worden beschouwd voor vele doeleinden).

              (2)      De aandacht wordt gevestigd op de definities van gebruikte termen of uitdrukkingen. Sommige komen voor in de Aantekeningen van diverse klassen in deze Sectie, zie in het bijzonder de definitie van “meten” in klasse G01. Andere komen voor in § 187 van de Gids voor de IPC, zie in het bijzonder de definitie van “regelen”. [17]

              (3)      Klassering in deze Sectie kan moeilijker blijken dan in andere Secties, omdat het onderscheid tussen verschillende toepassingsgebieden in belangrijker mate afhankelijk is van de bedoeling van de gebruiker dan op enig constructief verschil of gebruiksverschil, en omdat de behandelde onderwerpen vaak deel uitmaken van systemen of combinaties, met gezamenlijke kenmerken of delen, meer dan “dingen”die als geheel gemakkelijk zijn te onderscheiden. Bijvoorbeeld, informatie (bijv. een stel figuren) kan worden getoond met het doel van onderwijs of reclame (G09), om het resultaat van een meting bekend te maken (G01), voor het signaleren van de informatie naar een punt op afstand of het geven van gesignaleerde informatie vanaf een punt op afstand (G08). De gebruikte woorden om het doel te beschrijven hangen af van aspecten die irrelevant kunnen zijn voor de vorm van het betreffende apparaat, bijv. aspecten zoals het gewenste effectop de persoon die naar de afbeelding kijkt, of of de afbeelding op afstand wordt geregeld. Nogmaals, een inrichting die in zekere mate op een toestand reageert, bijv. op de druk van een fluďdum, kan zonder wijziging aan de inrichting zelf worden gebruikt om informatie te geven over de druk (G01L) of over een andere toestand die gekoppeld is aan de druk (een andere subklasse van G01, bijv. G01K voor de temperatuur), om een opname te maken van de druk of het voorkomen daarvan (G07C), om een alarm te geven (G08B) of om een andere apparaat aan te sturen (G05).

                        Het klasseringsschema is bedoeld om zaken van soortgelijke aard (zoals hierboven aangegeven) bij elkaar te kunnen klasseren. Het is daarom in het bijzonder noodzakelijk eerst over de werkelijke aard van enig technisch onderwerp te beslissen voordat er goed geklasseerd kan worden.

 

INSTRUMENTEN

 

G 03       FOTOGRAFIE; CINEMATOGRAFIE; ANALOGE TECHNIEKEN WAARBIJ GEBRUIK WORDT GEMAAKT VAN ANDERE DAN OPTISCHE GOLVEN; ELEKTROGRAFIE; HOLOGRAFIE (reproduceren van afbeeldingen of patronen door aftasten en omzetten in elektrische signalen H04N) [4] 

              Aantekeningen

 

              (1)      Onder deze subklasse vallen niet het reproduceren van beelden of patronen door aftasting en omzetting in elektrische signalen, wat valt onder de subklasse H04N. [11]

              (2)      In deze klasse worden de volgende termen gebruikt met de aangegeven betekenis:

                        -        “opnames” betekent foto’s of een andere soort latente aanwezige, direct zichtbare of permanente opslag van beeldinformatie, die bestaat uit een beeldgewijze spreiding van een grootheid, bijv. een elektrisch ladingspatroon, die is opgenomen op een dragerlichaam;

                        -        “optisch” slaat niet alleen op zichtbaar licht maar tevens op ultravioletstralen of infraroodstralen. [4]

 

G 03 F    FOTOMECHANISCH PRODUCEREN VAN GETEXTUREERDE OF GEPATRONEERDE OPPERVLAKKEN, BIJV. VOOR HET AFDRUKKEN OF VOOR HET BEWERKEN VAN HALFGELEIDERINRICHTINGEN; MATERIALEN DAARVOOR; ORIGINELEN DAARVOOR; SPECIAAL AANGEPASTE APPARATUUR DAARVOOR (foto-zetinrichtingen B41B; fotogevoelige materialen of processen voor de fotografie G03C; elektrografie, gevoelige lagen of processen G03G)

 

              Aantekening

 

              In deze subklasse worden de volgende termen of uitdrukkingen gebruikt met de aangegeven betekenissen:

              -         “fotogevoelig” betekent niet alleen gevoelig voor elektromagnetische straling maar tevens voor lichaamsstraling;

              -         “fotogevoelige samenstellingen” dekt fotogevoelige substanties, bijv. chinondiaziden, en, indien van toepassing, bindmiddelen of additieven;

              -         “fotogevoelige materialen” dekt de fotogevoelige samenstellingen, bijv. de middelen die bestand maken tegen licht, de dragers waarop zij zijn aangebracht en, indien van toepassing, hulplagen. [5]

 

G 03 F      1/00                    Bereiden van originelen voor het fotomechanische produceren van getextureerde of gepatroneerde oppervlakken (fotomechanische processen in het algemeen G03F 7/00) [3]

 

              Aantekening

 

              In deze subklasse is de prioriteitsregel voor de eerste plaats van kracht, d.w.z. op elk hiërarchisch niveau wordt geklasseerd in de eerst toepasselijke plaats, tenzij anders staat vermeld. [12,15]

 

G 03 F      1/02                    .    door fotografische processen voor het produceren van originelen waarmee een reliëf wordt nagebootst

G 03 F      1/04                    .    door fotomontageprocessen

G 03 F      1/06                    .    uit drukvlakken [5]

G 03 F      1/08                    .    Originelen met anorganische beeldlagen, bijv. chroommaskers (G03F 1/12 heeft voorrang) [5]

G 03 F      1/10                    .    door het belichten en uitwassen van gepigmenteerde of gekleurde organische lagen; door het kleuren van macromoleculaire patronen [5]

G 03 F      1/12                    .    door het belichten van zilverhalidehoudende fotogevoelige materialen of fotogevoelige diazomaterialen [5]

G 03 F      1/14                    .    Originelen die worden gekenmerkt door structurele details, bijv. ondersteuningen, toplagen of huidringen [5]

G 03 F      1/16                    .    Originelen met openingen, bijv. voor corpusculaire lithografie [5]

G 03 F      1/20                    .    Maskers of mask blanks ten behoeve van beeldvorming met behulp van straling met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. Met een elektronenbundel; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/22                    .    Maskers of mask blanks ten behoeve van beeldvorming met behulp van straling van 100nM of een kortere golflengte, bijv. maskers voor röntgenstraling of voor extreme ultravioletstraling [EUV]; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/24                    .    .    Reflectiemaskers; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/26                    .    Faseverschuivingsmaskers [PSM]; Mask blanks daarvoor; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/28                    .    .    met drie of meer verschillende fasen op dezelfde PSM; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/29                    .    .    Rand PSM of zijsteun PSM; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/30                    .    .    Afwisselende PSM, bijv. een Levenson-Shibuya PSM; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/32                    .    .    Afzwakkende PSM [att-PSM], bijv. een halftoon-PSM of een PSM met een halfdoorlatend faseverschuivingsdeel; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/34                    .    .    Faserand-PSM, bijv. een chroomloze PSM; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/36                    .    Maskers met benaderingscorrectiekenmerken; Bereiding daarvan, bijv. ontwerpprocessen met optische benaderingscorrectie [OPC] [12]

G 03 F      1/38                    .    Maskers met extra kenmerken, bijv. speciale coatings of met markeringen voor ujtlijnen of testen; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/40                    .    .    Kenmerken met betrekking tot elektrostatische ontlading [ESD], bijv. antistatische coatings of een geleidende metaal-laag rondom de buitenrand van het maskersubstraat [12]

G 03 F      1/42                    .    .   Kenmerken met betrekking tot uitlijnen of registreren, bijv. uitlijningsmarkeringen op de maskersubstraten [12]

G 03 F      1/44                    .    .    Kenmerken met betrekking tot testen of meten, bijv. rasterpatronen, focusmonitoren, zaagtandschalen of nokkenschalen [12]

G 03 F      1/46                    .    .    Antireflectiecoatings [12]

G 03 F      1/48                    .    .    Beschermende coatings [12]

G 03 F      1/50                    .    Mask blanks voor zover niet vallend onder de groepen G03F 1/20 tot G03F 1/26; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/52                    .    Reflectoren [12]

G 03 F      1/54                    .    Vangers, bijv. Niet-doorschijnende materialen [12]

G 03 F      1/56                    .    .    Organische vangers; bijv. fotolakken [12]

G 03 F      1/58                    .    .    met twee of meer verschillende vanglagen, bijv. gestapelde meerlaagse vangers [12]

G 03 F      1/60                    .    Substraten [12]

G 03 F      1/62                    .    Films of filmstelsels, bijv. Met een membraan op een steunframe; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/64                    .    .    gekenmerkt door de frames, bijv. de opbouw of het materiaal daarvan [12]

G 03 F      1/66                    .    Speciaal aangepaste houders voor maskers, mask blanks of films; Bereiding daarvan [12]

G 03 F      1/68                    .    Bereidingsprocessen voor zover niet vallend onder de groepen G01F 1/20 tot G01F 1/50 [12]

G 03 F      1/70                    .    .    Aanpassen van de basisopzet of het basisontwerp van maskers aan de eisen van lithografische processen, bijv. tweede iteratiecorrectie van maskerpatronen ten behoeve van beeldvorming [12]

G 03 F      1/72                    .    .    Repareren of corrigeren van maskerfouten [12]

G 03 F      1/74                    .    .    .    met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. een elektronenbundel [12]

G 03 F      1/76                    .    .    Patroneren van maskers door beeldvorming [12]

G 03 F      1/78                    .    .    .    met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. een elektronenbundel [12]

G 03 F      1/80                    .    .    Etsen [12]

G 03 F      1/82                    .    .    Hulpprocessen, bijv. reinigen [12]

G 03 F      1/84                    .    .    .    Inspecteren [12]

G 03 F      1/86                    .    .    .    .    met een geladen deeltjesbundel [CPB] [12]

G 03 F      1/88                    .    bereid door fotografische processen voor het maken van originelen waarop reliëf wordt nagebootst [12]

G 03 F      1/90                    .    bereid door montageprocessen [12]

G 03 F      1/92                    .    bereid vanaf drukoppervlakken [12]

 

G 03 F      3/00                    Scheiden van kleuren; Corrigeren van de toonwaarde (fotografische kopieerapparatuur in het algemeen G03B)

G 03 F      3/02                    .    door retoucheren

G 03 F      3/04                    .    door fotografische middelen

G 03 F      3/06                    .    .    door maskeren

G 03 F      3/08                    .    door foto-elektrische middelen

G 03 F      3/10                    .    Controleren van de kleur of toonwaarde van scheidingsnegatieven of scheidingspositieven 

G 03 F      5/00                    Rasterprocessen; Rasters daarvoor

G 03 F      5/02                    .    door projectiemethoden (camera’s G03B)

G 03 F      5/04                    .    .    waarbij het rastereffect verandert

G 03 F      5/06                    .    .    waarbij het diafragma-effect verandert

G 03 F      5/08                    .    .    gebruikmakend van lijnrasters

G 03 F      5/10                    .    .    gebruikmakend van kruislijnrasters

G 03 F      5/12                    .    .    gebruikmakend van andere rasters, bijv. korrelrasters

G 03 F      5/14                    .    door contactmethoden

G 03 F      5/16                    .    .    gebruikmakend van grijshalftoonrasters

G 03 F      5/18                    .    .    gebruikmakend van kleurhalftoonrasters

G 03 F      5/20                    .    gebruikmakend van rasters voor fotogravure

G 03 F      5/22                    .    waarbij diverse rasters worden gecombineerd; Elimineren van een moiré-uitvloeiing

G 03 F      5/24                    .    door meervoudige belichting, bijv. gecombineerde processen voor een lijn-foto en een raster

 

G 03 F      7/00                    Fotomechanisch, bijv. foto-lithografisch, produceren van getextureerde of gepatroneerde oppervlakken, bijv. bedrukte oppervlakken; Materialen daarvoor, bijv. met middelen die bestand maken tegen licht; Speciaal aangepaste apparatuur daarvoor (zie bij gebruikmaking van structuren die bestand maken tegen licht voor speciale productieprocessen de relevante plaatsen, bijv. B44C, H01L, bijv. H01L 21/00, of H05K) [3,5]

G 03 F      7/004                  .    Fotogevoelige materialen (G03F 7/12 en G03F 7/14 hebben voorrang) [5]

G 03 F      7/008                  .    .    Aziden (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/012                  .    .    .    Macromoleculaire aziden; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]

G 03 F      7/016                  .    .    Diazoniumzouten of diazoniumverbindingen (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/021                  .    .    .    Macromoleculaire diazoniumverbindingen; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]

G 03 F      7/022                  .    .    Chinondiaziden (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/023                  .    .    .    Macromoleculaire chinondiaziden; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]

G 03 F      7/025                  .    .    Niet-macromoleculaire foto-polymeriseerbare verbindingen met driedubbele koolstof-koolstofbindingen, bijv. acetyleenverbindingen (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/027                  .    .    Niet-macromoleculaire foto-polymeriseerbare verbindingen met dubbele koolstof-koolstofbindingen, bijv. ethyleenverbindingen (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/028                  .    .    .    met substanties die de fotogevoeligheid vergroten, bijv. foto-initiatoren [5]

G 03 F      7/029                  .    .    .    .    Anorganische verbindingen; Oniumverbindingen; Organische verbindingen met ander hetero-atomen dan zuurstof, stikstof of zwavel [5]

G 03 F      7/031                  .    .    .    .    Organische verbindingen die niet vallen onder groep G03F 7/029 [5]

G 03 F      7/032                  .    .    .    met bindmiddelen [5]

G 03 F      7/033                  .    .    .    .    waarbij de bindmiddelen polymeren zijn die worden verkregen door reacties waarbij sprake is van alleen onverzadigde koolstof-koolstofbindingen, bijv. vinylpolymeren [5]

G 03 F      7/035                  .    .    .    .    waarbij de bindmiddelen polyurethanen zijn [5]

G 03 F      7/037                  .    .    .    .    waarbij de bindmiddelen polyamiden of polyimiden zijn [5]

G 03 F      7/038                  .    .    Macromoleculaire verbindingen die onoplosbaar of verschillend te bevochtigen zijn gemaakt (G03F 7/075 heeft voorrang; macromoleculaire aziden G03F 7/012; macromoleculaire diazoniumverbindingen G03F 7/021) [5]

G 03 F      7/039                  .    .    Macromoleculaire verbindingen die foto-afbreekbaar zijn, bijv. bestand tegen positieve elektronen (G03F 7/075 heeft voorrang; macromoleculaire chinondiaziden G03F 7/023) [5]

G 03 F      7/04                    .    .    Chromaten (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/06                    .    .    Zilverzouten (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/07                    .    .    .    gebruikt voor diffusie-overdracht [5]

G 03 F      7/075                  .    .    Silicium-houdende verbindingen [5]

G 03 F      7/085                  .    .    Fotogevoelige samenstellingen die worden gekenmerkt door niet-macromoleculaire additieven voor het bevorderen van de kleefkracht (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/09                    .    .    gekenmerkt door structurele details, bijv. ondersteuningen of hulplagen (steunen voor drukplaten in het algemeen B41N) [5]

G 03 F      7/095                  .    .    .    met meer dan één fotogevoelige laag (G03F 7/075 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/105                  .    .    .    met substanties, bijv. indicatoren, voor het vormen van zichtbare afbeeldingen [5]

G 03 F      7/11                    .    .    .    met toplagen of tussenlagen, bijv. verzuringslagen [5]

G 03 F      7/115                  .    .    .    met ondersteuningen of lagen met middelen voor het verkrijgen van een rastereffect of voor het verkrijgen van een beter contact bij vacuümafdrukken [5]

G 03 F      7/12                    .    Produceren van rasterdrukvormen of soortgelijke drukvormen, bijv. sjablonen

G 03 F      7/14                    .    Produceren van lijmdrukvormen

G 03 F      7/16                    .    Coatingprocessen; Apparatuur daarvoor (aanbrengen van coatings op dragermaterialen in het algemeen B05; aanbrengen van fotogevoelige samenstellingen op de drager voor de fotografie G03C 1/74)

G 03 F      7/18                    .    .    Coaten van gebogen oppervlakken

G 03 F      7/20                    .    Belichten; Apparatuur daarvoor (fotografische afdrukapparatuur voor het maken van kopieën G03B 27/00) [4]

G 03 F      7/207                  .    .    Middelen voor het scherpstellen, bijv. automatisch (combineren van positionering en scherpstelling G03F 9/02; systemen voor het automatische opwekken van scherpstelsignalen in het algemeen G02B 7/28; middelen voor het automatisch scherpstellen van projectie-afdrukapparatuur G03B 27/34) [4]

G 03 F      7/213                  .    .    Tegelijkertijd belichten van verschillende posities van hetzelfde oppervlak met hetzelfde lichtpatroon (G03F 7/207 heeft voorrang) [4]

G 03 F      7/22                    .    .    Opeenvolgend belichten van verschillende posities van hetzelfde oppervlak met hetzelfde lichtpatroon (G03F 7/207 heeft voorrang) [4]

G 03 F      7/23                    .    .    .    Automatische middelen daarvoor [4]

G 03 F      7/24                    .    .    Gebogen oppervlakken

G 03 F      7/26                    .    Verwerken van fotogevoelige materialen; Apparatuur daarvoor (G03F 7/12 tot G03F 7/24 hebben voorrang) [3,5]

G 03 F      7/28                    .    .    voor het verkrijgen van poederafbeeldingen (G03F 3/10 heeft voorrang) [5]

G 03 F      7/30                    .    .    Beeldgewijze verwijderen waarbij gebruik wordt gemaakt van vloeibare middelen [5]

G 03 F      7/32                    .    .    .    Vloeistofsamenstellingen daarvoor, bijv. ontwikkelaars [5]

G 03 F      7/34                    .    .    Beeldgewijze verwijderen door selectieve overdracht, bijv. door afstropen [5

G 03 F      7/36                    .    .    Beeldgewijze verwijderen, voor zover niet vallend onder de groepen G03F 7/30 tot G03F 7/34, bijv. gebruikmakend van gasstromen of van plasma [5]

G 03 F      7/38                    .    .    Behandelen vóór het beeldgewijze verwijderen, bijv. voorbakken [5]

G 03 F      7/40                    .    .    Behandeling ná het beeldgewijze verwijderen, bijv. bakken [5]

G 03 F      7/42                    .    .    Afstropen of middelen daarvoor [5]

 

G 03 F      9/00                    Registreren of positioneren van originelen, maskers, frames, fotografische vellen of getextureerde of gepatroneerde oppervlakken, bijv. automatisch (G03F 7/22 heeft voorrang; bereiden van fotografische maskers G03F 1/00; in fotografische afdrukapparatuur voor het maken van kopieën G03B 27/00) [4]

G 03 F      9/02                    .    gecombineerd met middelen voor het automatisch scherpstellen (automatisch scherpstellen in het algemeen G02B 7/09; systemen voor het automatisch opwekken van scherpstelsignalen G02B 7/28) [4]