SECTIE
C CHEMIE; METALLURGIE
Aantekeningen
(1)
In Sectie C zijn de definities van groepen
chemische elementen als volgt:
Alkalimetalen: Li, Na, K, Rb, Cs, Fr
Aardalkalimetalen: Ca, Sr, Ba, Ra
Lanthaniden: elementen
met atoomgetallen 57 t/m 71
Zeldzame
aardmetalen: Sc, Y, Lanthaniden
Actiniden: elementen
met atoomgetallen 89 t/m 103
Vuurvaste
metalen: Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo,
Hf, Ta, W
Halogenen: F, Cl, Br, I, At
Edelgassen: He, Ne, Ar, Kr, Xe, Rn
Platinagroep: Os, Ir, Pt, Ru, Rh, Pd
Edele
metalen: Ag, Au,
platinagroep
Lichte metalen: alkalimetalen, aardalkalimetalen, Be, Al, Mg
Zware metalen: metalen anders dan lichte metalen
IJzergroep: Fe, Co, Ni
Niet-metalen: H,
B, C, Si, N, P, O, S, Se, Te, edelgassen, halogenen
Metalen: elementen
anders dan niet-metalen
Transitie-elementen: elementen met atoomgetallen 21 t/m 30, 39 t/m 48, 57 t/m 80,
en 89 en hoger
(2) Onder Sectie C vallen:
(a) Pure chemie, waaronder vallen anorganische
verbindingen, organische verbindingen, macromoleculaire verbindingen, en hun
bereidingsmethoden;
(b) Toegepaste chemie, waaronder vallen
samenstellingen met bovenstaande verbindingen, bijv. glas, keramiek,
meststoffen, kunststofsamenstellingen, verven, en producten uit de
petroleumindustrie. Ook vallen hieronder bepaalde samenstellingen op grond van
het hebben van bijzondere eigenschappen, die ze geschiklt maken voor bepaalde
doeleinden, zoals in geval van explosieven, kleurstoffen, kleefmiddelen, smeermiddelen,
en wasmiddelen.
(c) Bepaalde marginale industrieën, zoals het
maken van kolen en van vaste of gasvormige brandstoffen, de productie and
raffinage van oliën, vetten en wassen, de fermentatie-industrie (bijv.
brouwerijen en wijnmakerijen), en de suikerindustrie.
(d) Bepaalde bewerkingen of behandelingen, die
ofwel puur meachnisch zijn, bijv. de mechanische behandeling van leer en
huiden, of gedeeltelijk mechanisch, bijv. de behandeling van water of het
voorkomen van corrosie in het algemeen.
(e) Metallurgie, en ferrolegeringen of
niet-ferrolegeringen.
(3) In alle Secties van de IPC is het
Periodiek Systeem van chemische elementen waarnaar wordt verwezen, dezelfde als
die algemeen aanvaard en gebruikelijk is.
(4) (a) In
geval van bewerkingen, handelingen, producten of artikelen met zowel een
chemisch als een niet-chemisch gedeelte of aspect, geldt de algemene regel dat
het chemische gedeelte of aspect valt onder Sectie C.
(b) In sommige van deze gevallen brengt het
chemische gedeelte of aspect een niet chemische met zich mee, zelfs als dat
puur mechanisch is, omdat dit laatste aspect ofwel essentieel is voor de
bewerking of handeling, of daarvan een belangrijk deel uitmaakt. In feite
blijkt het logischer de verschillende gedeelten of aspecten niet te scheiden
van een samenhangend geheel. Dit geldt voor toegepaste chemie en voor de
industrieën, bewerkingen en handelingen genoemd in de Aantekeningen (1)(c), (d)
en (e). Bijvoorbeeld vallen ovens specifiek bedoeld voor het maken van glas
onder klasse C03 en niet onder klasse F27.
(c) Er zijn echter sommige uitzonderingen,
waarin het mechanisch (of niet-mechanische) aspect juist het chemische aspect
met zich meebrengen, bijvoorbeeld:
- Bepaalde extractieprocessen, in
subklasse A61K;
- De chemische zuivering van lucht, in
subklasse A61L;
- Chemische methoden van
brandbestrijding, in subklasse A62D;
- Chemische processen en apparatuur, in
klasse B01;
- Impregneren van hout, in subklasse
B27K;
- Chemische analysemethoden of testmethoden,
in subklasse G01N;
- Fotografische materialen en processen,
in klasse G03; en algemeen
- De chemische behandeling van textiel en
de productie van cellulose of papier, in Sectie D.
(d) In nog andere gevallen valt het puur
chemische aspect onder Sectie C, en het toegepaste chemische aspect in een
andere Sectie, zoals A, B of F, bijv. het gebruik van een substantie of
samenstelling voor:
- de behandeling van planten of dieren,
valt onder subklasse A01N;
- voedingsmiddelen, vallen onder klasse
A23;
- munitie of explosieven, vallen onder
klasse F42.
(e) Als de chemische en mechanische aspecten
zo nauw met elkaar zijn verbonden dat een nette en eenvoudige splitsing niet mogelijk
is, of als bepaalde mechanische processen een natuurlijk en logisch vervolg op
een chemische behandeling vormen, kan onder Sectie C, in aanvulling op het
chemische aspect, ook een gedeelte van het mechanische aspect vallen, bijv.
nabehandeling van kunststeen, wat valt onder klasse C04.In dit laatste geval
wordt gewoonlijk een aantekening of referentie gegeven om de positie te
verduidelijken, zelfs als splitsing nogal arbitrair is.
METALLURGIE
C 23 COATEN
VAN METAALACHTIG MATERIAAL; COATEN VAN MATERIAAL MET METAALACHTIG MATERIAAL;
CHEMISCHE OPPERVLAKTEBEHANDELING; DIFFUSIEBEHANDELING VAN METAALACHTIG
MATERIAAL; COATEN DOOR VACUÜMVERDAMPING, DOOR KATHODEVERSTUIVING, DOOR
IONENIMPLANTATIE OF DOOR CHEMISCHE DAMPAFZETTING IN HET ALGEMEEN; TEGENGAAN VAN
CORROSIE VAN METAALACHTIG MATERIAAL OF AANZETTING IN HET ALGEMEEN [2,11]
Aantekening
In
deze klasse wordt de volgende uitdrukking gebruikt met de aangegeven betekenis:
- “metaalachtig
materiaal” omvat:
(a) metalen; [4]
(b) legeringen (de aandacht wordt gevestigd op
de Aantekening volgend op de titel van subklasse C22C).
C
In
deze subklasse wordt een bewerking beschouwd als voorbehandeling of
nabehandeling als deze speciaal is aangepast voor, maar duidelijk te
onderscheiden is van, het betreffende coatingproces, en bovendien een
onafhankelijke bewerking inhoudt. Als een bewerking resulteert in de vorming
van een permanente onderlaag of bovenlaag, wordt deze niet beschouwd als
voorbehandeling of nabehandeling, en daarom geklasseerd als een meervoudig
coatingproces. [4]
Coaten
door het in gesmolten toestand aanbrengen van coatingmateriaal [4,9]
C 23
C
2/00 Heetdompelprocessen
en dergelijke voor het aanbrengen van coatingmateriaal in gesmolten toestand
zonder de vorm te beïnvloeden; Apparatuur daarvoor [4]
C 23
C
2/02 . Voorbehandelen van het te coaten materiaal,
bijv. voor het coaten van geselecteerde oppervlaktegebieden (C23C 2/30 heeft
voorrang) [4]
C 23
C
2/04 . gekenmerkt door het coatingmateriaal [4]
C 23
C
2/06 . . Zink
of cadmium of daarop gebaseerde legeringen [4]
C 23
C
2/08 . . Tin
of daarop gebaseerde legeringen [4]
C 23
C
2/10 . . Lood
of daarop gebaseerde legeringen [4]
C 23
C
2/12 . . Aluminium
of daarop gebaseerde legeringen [4]
C 23
C
2/14 . Verwijderen van een overmaat aan gesmolten
coatings; Regelen van de coatingdikte [4,18]
C 23
C
2/16 . . gebruikmakend
van fluïda onder druk, bijv. luchtmessen [4]
C 23
C
2/18 . . . Verwijderen van een overmaat aan gesmolten
coatings van langgerekt materiaal [4]
C 23
C
2/20 . . . . Stroken;
Platen [4]
C 23
C
2/22 . . door
wrijven, bijv. gebruikmakend van messen [4]
C 23
C
2/24 . . gebruikmakend
van een magnetisch of elektrisch veld [4]
C 23
C
2/26 . Nabehandelen (C23C 2/14 heeft voorrang) [4]
C 23
C
2/28 . . Thermisch
nabehandelen, bijv. behandeling in een oliebad [4]
C 23
C
2/30 . Fluxes of afdekkingen op smeltbaden (C23C
2/22 heeft voorrang) [4]
C 23
C
2/32 . gebruikmakend van trilenergie die wordt
toegevoerd aan het bad of substraat (C23C 2/14 heeft voorrang) [4]
C 23
C
2/34 . gekenmerkt door de vorm van het te
behandelen materiaal (C23C 2/14 heeft voorrang) [4]
C 23
C
2/36 . . Langgerekt
materiaal [4]
C 23
C
2/38 . . . Draden; Buizen [4]
C 23
C
2/40 . . . Platen; Stroken [4]
C 23
C
4/00 Coaten door
versproeien van het coatingmateriaal in gesmolten toestand, bijv. met een vlam,
plasma of elektrische ontlading (opbouwlassen B23K, bijv. B23K 5/18 en B23K
9/04) [4,9,16]
C 23
C
4/01 . Selectief coaten, bijv. patrooncoaten,
zonder voorbehandeling van het te coaten materiaal [16]
C 23
C
4/02 . Voorbehandelen van het te coaten materiaal,
bijv. voor het coaten van geselecteerde oppervlaktegebieden [4]
C 23
C
4/04 . gekenmerkt door het coatingmateriaal [4]
C 23
C
4/06 . . Metaalachtig
materiaal [4]
C 23
C
4/067 . . . met vrije deeltjes van niet-metaalelementen,
bijv. koolstof, silicium, boor, fosfor of arseen [16]
C 23
C
4/073 . . . met McrAl-legeringen of McrAlY-legeringen,
waarbij M nikkel, kobalt of ijzer is, met of zonder niet-metaalelementen [16]
C 23
C
4/08 . . . met alleen metaalelementen (C23C 4/073 heeft
voorrang) [4,16]
C 23
C
4/10 . . Oxiden,
boriden, carbiden, nitriden of siliciden; Mengsels daarvan [4,16]
C 23
C
4/11 . . . Oxiden [16]
C 23
C
4/12 . gekenmerkt door de methode van sproeien [4]
Aantekening [16]
In deze groep wordt naar meerdere
aspecten geklasseerd, zodat onderwerpen die worden gekenmerkt door aspecten die
vallen onder meer dan één van de ondergroepen, moeten worden geklasseerd in elk
van die ondergroepen. [16]
C 23
C
4/123 . . Sproeien
van gesmolten metaal [16]
C 23
C
4/126 . . Explosiesproeien
[16]
C 23
C
4/129 . . Vlamsproeien
[16]
C 23
C
4/131 . . Draadboogsproeien
[16]
C 23
C
4/134 . . Plasmasproeien
[16]
C 23
C
4/137 . . Sproeien
in vacuüm of in een inerte atmosfeer [16]
C 23
C
4/14 . . voor
het coaten van langgerekt materiaal [4,16]
C 23
C
4/16 . . . Draden; Buizen [4]
C 23
C
4/18 . Nabehandelen [4]
C 23
C
6/00 Coaten door
het gieten van gesmolten materiaal over het substraat [4]
Vastestofdiffusie
in oppervlakken van metaalachtig materiaal [4]
C 23
C
8/00 Vastestofdiffusie
van alleen niet-metalen elementen in oppervlakken van metaalachtig materiaal
(diffusie van silicium C23C 10/00); Chemisch behandelen van het oppervlak
van metaalachtig materiaal door een reactie van het oppervlak met een reactief
gas, waarbij reactieproducten van oppervlaktemateriaal in de coating worden
achtergelaten, bijv. conversiecoatings of het passiveren van metalen (C23C
14/00 heeft voorrang) [4]
C 23
C
8/02 . Voorbehandelen van het te coaten materiaal
(C23C 8/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C
8/04 . Behandelen van geselecteerde
oppervlaktegebieden, bijv. gebruikmakend van maskers [4]
C 23
C
8/06 . gebruikmakend van gassen [4,8]
C 23
C
8/08 . . waarbij
slechts één element wordt aangebracht [4]
C 23
C
8/10 . . . Oxideren [4]
C 23
C
8/12 . . . . gebruikmakend
van elementaire zuurstof of ozon [4]
C 23
C
8/14 . . . . . Oxideren van ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/16 . . . . gebruikmakend
van zuurstofhoudende verbindingen, bijv. H2O of CO2 [4]
C 23
C
8/18 . . . . . Oxideren van ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/20 . . . Cementeren [4]
C 23
C
8/22 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/24 . . . Nitreren [4]
C 23
C
8/26 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/28 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in één stap [4]
C 23
C
8/30 . . . Carbonitreren [4]
C 23
C
8/32 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/34 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in meer dan één stap [4]
C 23
C
8/36 . . gebruikmakend
van geïoniseerde gassen, bijv. ionitreren [4,18]
C 23
C
8/38 . . . Behandelen van ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/40 . gebruikmakend van vloeistoffen, bijv.
zoutbaden of vloeibare suspensies [4]
C 23
C
8/42 . . waarbij
slechts één element wordt aangebracht [4]
C 23
C
8/44 . . . Cementeren [4]
C 23
C
8/46 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/48 . . . Nitreren [4]
C 23
C
8/50 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/52 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in één stap [4]
C 23
C
8/54 . . . Carbonitreren [4]
C 23
C
8/56 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/58 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in meer dan één stap [4]
C 23
C
8/60 . gebruikmakend van vaste stoffen, bijv.
poeders of pasta’s (gebruikmakend van vloeibare suspensies van vaste stoffen
C23C 8/40) [4]
C 23
C
8/62 . . waarbij
slechts één element wordt aangebracht [4]
C 23
C
8/64 . . . Cementeren [4]
C 23
C
8/66 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/68 . . . Boreren [4]
C 23
C
8/70 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/72 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in één stap [4]
C 23
C
8/74 . . . Carbonitreren [4]
C 23
C
8/76 . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C
8/78 . . waarbij
meer dan één element wordt aangebracht in meer dan één stap [4]
C 23
C
8/80 . Nabehandelen [4]
C 23
C 10/00 Vastestofdiffusie van alleen metalen elementen of
silicium in oppervlakken van metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 10/02 . Voorbehandelen
van het te coaten materiaal (C23C 10/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 10/04 . Diffusie
in geselecteerde oppervlaktegebieden, bijv. gebruikmakend van maskers [4]
C 23
C 10/06 . gebruikmakend
van gassen [4]
C 23
C 10/08 . . waarbij slechts één element wordt
gediffundeerd [4]
C 23
C 10/10 . . . Chromeren
[4]
C 23
C 10/12 . . . . van ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C 10/14 . . waarbij meer dan één element wordt
gediffundeerd in één stap [4]
C 23
C 10/16 . . waarbij meer dan één element wordt
gediffundeerd in meer dan één stap [4]
C 23
C 10/18 . gebruikmakend
van vloeistoffen, bijv. zoutbaden of vloeibare suspensies [4]
C 23
C 10/20 . . waarbij slechts één element wordt
gediffundeerd [4]
C 23
C 10/22 . . . Metaalsmelt
die het te diffunderen element bevat [4]
C 23
C 10/24 . . . Zoutbaden
met het te diffunderen element [4]
C 23
C 10/26 . . waarbij meer dan één element wordt
gediffundeerd [4]
C 23
C 10/28 . gebruikmakend
van vaste stoffen, bijv. poeders of pasta’s [4]
C 23
C 10/30 . . gebruikmakend van een laag poeder of pasta
op het oppervlak (gebruikmakend van vloeibare suspensies van vaste stoffen C23C
10/18) [4]
C 23
C 10/32 . . . Chromeren
[4]
C 23
C 10/34 . . Inbedden van een poedermengsel, d.w.z.
gestapeld cementeren [4]
C 23
C 10/36 . . . waarbij
slechts één element wordt gediffundeerd [4]
C 23
C 10/38 . . . . Chromeren [4]
C 23
C 10/40 . . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C 10/42 . . . . . . in aanwezigheid van vluchtige
transportadditieven, bijv. gehalogeneerde substanties [4]
C 23
C 10/44 . . . . Siliconiseren [4]
C 23
C 10/46 . . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C 10/48 . . . . Aluminiseren [4]
C 23
C 10/50 . . . . . van
ijzerhoudende oppervlakken [4]
C 23
C 10/52 . . . waarbij
meer dan één element wordt gediffundeerd in één stap [4]
C 23
C 10/54 . . . . Diffunderen van tenminste chroom [4]
C 23
C 10/56 . . . . . en
tenminste aluminium [4]
C 23
C 10/58 . . . waarbij
meer dan één element wordt gediffundeerd in meer dan één stap [4]
C 23
C 10/60 . Nabehandelen
[4]
C 23
C 12/00 Vastestofdiffusie van tenminste één ander
niet-metalen element dan silicium en tenminste één metalen element of silicium
in oppervlakken van metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 12/02 . Diffunderen
in één stap [4]
Coaten
door vacuümverdamping, kathodeverstuiving of ionenimplantatie [4]
C 23
C 14/00 Coaten door vacuümverdamping, kathodeverstuiving of
ionenimplantatie van het coating-vormende materiaal [4,18]
C 23
C 14/02 . Voorbehandelen
van het te coaten materiaal (C23C 14/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 14/04 . Coaten
op geselecteerde oppervlaktegebieden, bijv. gebruikmakend van maskers [4]
C 23
C 14/06 . gekenmerkt
door het coatingmateriaal (C23C 14/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 14/08 . . Oxiden (C23C 14/10 heeft voorrang) [4]
C 23 C
14/10 . . Glas
of silicium [4]
C 23
C 14/12 . . Organisch materiaal [4]
C 23
C 14/14 . . Metaalachtig materiaal, boor of silicium [4]
C 23
C 14/16 . . . op
metaalachtige substraten of op substraten van boor of silicium [4]
C 23
C 14/18 . . . op
andere anorganische substraten [4]
C 23
C 14/20 . . . op
organische substraten [4]
C 23
C 14/22 . gekenmerkt
door het coatingproces [4]
C 23
C 14/24 . . Vacuümverdamping [4]
C 23
C 14/26 . . . door
weerstandsverwarming of inductieverwarming van de bron [4]
C 23
C 14/28 . . . door
golfenergie of deeltjesstraling (C23C 14/32 tot C23C 14/48 hebben voorrang) [4]
C 23
C 14/30 . . . . door een elektronenbombardement [4]
C 23
C 14/32 . . . door
een explosie; door verdampen en aansluitend ioniseren van de dampen (C23C 14/34
tot C23C 14/48 hebben voorrang) [4]
C 23
C 14/34 . . Kathodeverstuiving [4]
C 23
C 14/35 . . . door
het aanbrengen van een magnetisch veld, bijv. gloeidraad-kathodeverstuiving [5]
C 23
C 14/36 . . . Kathodeverstuiving
met een diode (C23C 14/35 heeft voorrang) [4,5]
C 23
C 14/38 . . . . door gelijkstroomontlading [4]
C 23
C 14/40 . . . . door wisselstroomontlading, bijv.
hoogfrequent ontladen [4]
C 23
C 14/42 . . . Kathodeverstuiving
met een triode (C23C 14/35 heeft voorrang) [4,5]
C 23
C 14/44 . . . . door het aanbrengen van zowel hoge
frequenties als gelijkstroom [4]
C 23
C 14/46 . . . door
een ionenstraal die wordt geproduceerd door een externe ionenbron (C23C 14/40
heeft voorrang) [4]
C 23
C 14/48 . . Ionenimplantatie [4]
C 23
C 14/50 . . Substraathouders [4]
C 23
C 14/52 . . Middelen voor het bewaken van het
coatingproces [4]
C 23
C 14/54 . . Regelen van het coatingproces [4,18]
C 23
C 14/56 . . Speciaal aangepaste apparatuur voor het
continu coaten; Voorzieningen voor het in stand houden van een vacuüm, bijv.
vacuümsluizen [4]
C 23
C 14/58 . Nabehandelen
[4]
Chemisch
afzetten of platineren door ontleding; Contactplateren [4,9]
C 23 C 16/00 Chemisch
coaten door het ontleden van gasvormige verbindingen zonder achterlating van
reactieproducten van oppervlaktematerialen in de coating, d.w.z. processen met
chemische dampafzetting (CVD) (reactieve kathodeverstuiving of
vacuümverdamping C23C 14/00) [4]
C 23
C 16/01 . op
tijdelijke substraten, bijv. op substraten die aansluitend aan het etsen worden
verwijderd [7]
C 23
C 16/02 . Voorbehandelen
van het te coaten materiaal (C23C 16/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 16/04 . Coaten op
geselecteerde oppervlaktegebieden, bijv. gebruikmakend van maskers [4]
C 23
C 16/06 . gekenmerkt
door het afzetten van metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 16/08 . . uit metaalhaliden [4]
C 23
C 16/10 . . . Afzetting
van alleen chroom [4]
C 23
C 16/12 . . . Afzetting
van alleen aluminium [4]
C 23
C 16/14 . . . Afzetting
van alleen één ander metaalelement [4]
C 23
C 16/16 . . uit metaalcarbonylverbindingen [4]
C 23
C 16/18 . . uit metallo-organische verbindingen [4]
C 23
C 16/20 . . . Afzetting
van alleen aluminium [4]
C 23
C 16/22 . gekenmerkt
door het afzetten van een ander anorganisch materiaal dan metaalachtig
materiaal [4]
C 23
C 16/24 . . Afzetting van alleen silicium [4]
C 23
C 16/26 . . Afzetting van alleen koolstof [4]
C 23
C 16/27 . . . Alleen
diamant [7]
C 23
C 16/28 . . Afzetting van alleen één ander
niet-metaalelement [4]
C 23
C 16/30 . . Verbindingen, mengsels of vaste oplossingen,
bijv. boriden, carbiden of nitriden [4]
C 23
C 16/32 . . . Carbiden
[4]
C 23
C 16/34 . . . Nitriden [4]
C 23 C
16/36 . . . Carbonitriden [4]
C 23 C
16/38 . . . Boriden [4]
C 23
C 16/40 . . . Oxiden
[4]
C 23
C 16/42 . . . Siliciden
[4]
C 23
C 16/44 . gekenmerkt
door de wijze van coaten (C23C 16/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 16/442 . . gebruikmakend van processen met een
gefluïdiseerd bed [7]
C 23
C 16/448 . . gekenmerkt door de gebruikte methode voor
het opwekken van reactieve gasstromen, bijv. door het verdampen of sublimeren
van voorlopermaterialen [7]
C 23
C 16/452 . . . door
het activeren van de gasstroom vóór het inbrengen in de reactiekamer, bijv.
door ioniseren of door toevoegen van reactieve soorten [7]
C 23
C 16/453 . . door het laten passeren van de reactiegassen
door branders of toortsen, bijv. chemische dampafzetting bij atmosferische druk
(C23C 16/513 heeft voorrang; voor vlamsproeien of plasmasproeien in gesmolten
toestand C23C 4/00) [7]
C 23
C 16/455 . . gekenmerkt door de gebruikte methode voor
het inbrengen van gassen in de reactiekamer of voor het modificeren van gasstromen
in de reactiekamer [7]
C 23
C 16/458 . . gekenmerkt door de gebruikte methode voor
het ondersteunen van de substraten in de reactiekamer [7]
C 23
C 16/46 . . gekenmerkt door de gebruikte methode voor
het verwarmen van het substraat (C23C 16/48 en C23C 16/50 hebben voorrang) [4]
C 23
C 16/48 . . door bestraling, bijv. fotolyse, radiolyse
of deeltjesstraling [4]
C 23
C 16/50 . . gebruikmakend van elektrische ontladingen [4]
C 23
C 16/503 . . . gebruikmakend
van gelijkstroomontladingen of wisselstroomontladingen [7]
C 23
C 16/505 . . . gebruikmakend
van radiofrequentie-ontladingen [7]
C 23
C 16/507 . . . . gebruikmakend van uitwendige elektroden,
bijv. in tunnelreactoren [7]
C 23
C 16/509 . . . . gebruikmakend van inwendige elektroden [7]
C 23
C 16/511 . . . gebruikmakend
van microgolfontladingen [7]
C 23
C 16/513 . . . gebruikmakend
van plasmastralen [7]
C 23
C 16/515 . . . gebruikmakend
van pulsontladingen [7]
C 23
C 16/517 . . . gebruikmakend
van een combinatie van ontladingen die vallen onder twee of meer van de groepen
C23C 16/503 tot C23C 16/515 [7]
C 23
C 16/52 . . Regelen van het coatingproces [4,18]
C 23
C 16/54 . . Speciaal aangepaste apparatuur voor het continu
coaten [4]
C 23
C 16/56 . Nabehandelen
[4]
C 23
C 18/00 Chemisch coaten door het ontleden van ofwel
vloeibare verbindingen ofwel oplossingen van de coating-vormende verbindingen
zonder achterlating van reactieproducten van oppervlaktemateriaal in de coating;
Contactplateren [4,18]
Aantekening
Onder deze groep vallen tevens
suspensies die reactieve vloeistoffen en niet-reactieve vaste deeltjes
bevatten. [4]
C 23
C 18/02 . door thermisch
ontleden [4]
C 23
C 18/04 . . Voorbehandelen van het te coaten materiaal
(C23C 18/06 heeft voorrang) [4]
C 23
C 18/06 . . Coaten op geselecteerde oppervlaktegebieden,
bijv. gebruikmakend van maskers [4]
C 23
C 18/08 . . gekenmerkt door het afzetten van
metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 18/10 . . . Afzetting
van alleen aluminium [4]
C 23
C 18/12 . . gekenmerkt door het afzetten van een ander
anorganisch materiaal dan metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 18/14 . Ontleding
door bestralen, bijv. fotolyse of deeltjesstraling [4]
C 23
C 18/16 . door
reduceren of substitueren, d.w.z. stroomloos plateren (C23C 18/54 heeft
voorrang) [4]
C 23
C 18/18 . . Voorbehandelen van het te coaten materiaal [4]
C 23
C 18/20 . . . van
organische oppervlakken, bijv. harsen [4]
C 23
C 18/22 . . . . Ruwen, bijv. door te etsen [4]
C 23
C 18/24 . . . . . gebruikmakend
van waterige zuuroplossingen [4]
C 23
C 18/26 . . . . . gebruikmakend
van organische vloeistoffen [4]
C 23
C 18/28 . . . . Sensibiliseren of activeren [4]
C 23
C 18/30 . . . . . Activeren
[4]
C 23
C 18/31 . . Coaten met metalen [5]
C 23
C 18/32 . . . Coaten
met ijzer, kobalt of nikkel; Coaten met mengsels van fosfor of boor met één van
deze metalen [4,5]
C 23
C 18/34 . . . . gebruikmakend van reductiemiddelen [4,5]
C 23
C 18/36 . . . . . gebruikmakend
van hypofosfieten [4,5]
C 23
C 18/38 . . . Coaten
met koper [4,5]
C 23
C 18/40 . . . . gebruikmakend van reductiemiddelen [4,5]
C 23
C 18/42 . . . Coaten
met edele metalen [4,5]
C 23
C 18/44 . . . . gebruikmakend van reductiemiddelen [4,5]
C 23
C 18/48 . . Coaten met legeringen [4,5]
C 23
C 18/50 . . . met
legeringen op basis van ijzer, kobalt of nikkel (C23C 18/32 heeft voorrang) [4,5]
C 23
C 18/52 . . gebruikmakend van reductiemiddelen voor het
coaten met metaalachtig materiaal voorzover niet vallend onder één van de
groepen C23C 18/32 tot C23C 18/50 [4]
C 23
C 18/54 . Contactplateren,
d.w.z. stroomloos elektrochemisch plateren [4]
C 23
C 20/00 Chemisch coaten door het ontleden van ofwel vaste
verbindingen ofwel suspensies van de coating-vormende verbindingen zonder
achterlating van reactieproducten van oppervlaktemateriaal in de coating [4,18]
Aantekening
Onder deze groep vallen tevens
suspensies die niet-reactieve vloeistoffen en reactieve vaste deeltjes
bevatten. [4]
C 23
C 20/02 . Coaten
met metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 20/04 . . met metalen [4]
C 23
C 20/06 . Coaten
met een ander anorganisch materiaal dan metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 20/08 . . met verbindingen, mengsels of vaste
oplossingen, bijv. boriden, carbiden of nitriden [4]
C 23
C 22/00 Chemisch behandelen van oppervlakken van
metaalachtig materiaal door een reactie van het oppervlak met een reactieve
vloeistof, waarbij reactieproducten van oppervlaktemateriaal in de coating
worden achtergelaten, bijv. conversiecoatings of passivering van metalen [4,18]
(1) Onder deze groep vallen tevens suspensies met reactieve
vloeistoffen en niet-reactieve vaste deeltjes. [4]
(2) Rejuvenating van het
bad wordt geklasseerd in de toepasselijke plaats voor de specifieke
badsamenstelling. [4]
(3) In de groepen C23C 22/02 tot C23C 22/86 is de prioriteitsregel
voor de laatste plaats van kracht, d.w.z. op elk hiërarchisch niveau wordt
geklasseerd in de laatste toepasselijke plaats, tenzij anders staat vermeld. [4,15]
C 23
C 22/02 . gebruikmakend
van niet-waterige oplossingen [4]
C 23
C 22/03 . . met fosforverbindingen [4]
C 23
C 22/04 . . met verbindingen van zeswaardig chroom [4]
C 23
C 22/05 . gebruikmakend
van waterige oplossingen [5]
C 23
C 22/06 . . gebruikmakend van waterige zuuroplossingen
met een pH< 6 [4,5]
C 23
C 22/07 . . . met
fosfaten [4,5]
C 23
C 22/08 . . . . Ortho-fosfaten [4,5]
C 23
C 22/10 . . . . . met
oxidanten [4,5]
C 23
C 22/12 . . . . . met
negatieve zinkionen [4,5]
C 23
C 22/13 . . . . . . met tevens positieve nitraationen of
nitrietionen [4,5]
C 23
C 22/14 . . . . . . met tevens positieve chloraationen [4,5]
C 23
C 22/16 . . . . . . met tevens peroxyverbindingen [4,5]
C 23
C 22/17 . . . . . . met tevens organische zuren [4,5]
C 23
C 22/18 . . . . . met
negatieve mangaanionen [4,5]
C 23
C 22/20 . . . . . met
negatieve aluminiumionen [4,5]
C 23
C 22/22 . . . . . met
negatieve aardalkalimetaalionen [4,5]
C 23
C 22/23 . . . . Gecondenseerde fosfaten [4,5]
C 23
C 22/24 . . . met
verbindingen van zeswaardig chroom [4,5]
C 23
C 22/26 . . . . met tevens organische verbindingen [4,5]
C 23
C 22/27 . . . . . Zuren
[4,5]
C 23
C 22/28 . . . . . Macromoleculaire
verbindingen [4,5]
C 23
C 22/30 . . . . met tevens driewaardig chroom [4,5]
C 23
C 22/32 . . . . met tevens poedervormige metalen [4,5]
C 23
C 22/33 . . . . met tevens fosfaten [4,5]
C 23
C 22/34 . . . met
fluoriden of complexe fluoriden [4,5]
C 23
C 22/36 . . . . met tevens fosfaten [4,5]
C 23
C 22/37 . . . . met tevens verbindingen van zeswaardig
chroom [4,5]
C 23
C 22/38 . . . . . met
tevens fosfaten [4,5]
C 23
C 22/40 . . . met
molybdaten, wolframaten of vanadaten [4,5]
C 23
C 22/42 . . . . met tevens fosfaten [4,5]
C 23
C 22/43 . . . . met tevens verbindingen van zeswaardig
chroom [4,5]
C 23
C 22/44 . . . . met tevens fluoriden of complexe fluoriden [4,5]
C 23
C 22/46 . . . met
oxalaten [4,5]
C 23
C 22/47 . . . . met tevens fosfaten [4,5]
C 23
C 22/48 . . . zonder
fosfaten, zeswaardig chroom, fluoriden of complexe fluoriden, molybdaten,
wolframaten, vanadaten of oxalaten [4,5]
C 23
C 22/50 . . . . Behandelen van ijzer of daarop gebaseerde
legeringen [4,5]
C 23
C 22/52 . . . . Behandelen van koper of daarop gebaseerde
legeringen [4,5]
C 23
C 22/53 . . . . Behandelen van zink of daarop gebaseerde
legeringen [4,5]
C 23
C 22/54 . . . . Behandelen van vuurvaste metalen of daarop
gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/56 . . . . Behandelen van aluminium of daarop
gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/57 . . . . Behandelen van magnesium of daarop
gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/58 . . . . Behandelen van een ander metaalachtig
materiaal [4,5]
C 23
C 22/60 . . gebruikmakend van waterige base-oplossingen
met een pH > 8 [4,5]
C 23
C 22/62 . . . Behandelen
van ijzer of daarop gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/63 . . . Behandelen
van koper of daarop gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/64 . . . Behandelen
van vuurvaste metalen of daarop gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/66 . . . Behandelen
van aluminium of daarop gebaseerde legeringen [4,5]
C 23
C 22/67 . . . . met oplossingen die zeswaardig chroom
bevatten [4,5]
C 23
C 22/68 . gebruikmakend
van waterige oplossingen met een pH tussen 6 en 8 [4,5]
C 23
C 22/70 . gebruikmakend
van smelten [4]
C 23
C 22/72 . . Behandelen van ijzer of daarop gebaseerde
legeringen [4]
C 23
C 22/73 . gekenmerkt
door het proces [4]
C 23
C 22/74 . . voor het verkrijgen van ingebrande
conversiecoatings [4]
C 23
C 22/76 . . Aanbrengen van de vloeistof door sproeien [4]
C 23
C 22/77 . . Regelen van het coatingproces [4,18]
C 23
C 22/78 . Voorbehandelen
van het te coaten materiaal [4]
C 23
C 22/80 . . met oplossingen die titaanverbindingen of
zirkoniumverbindingen bevatten [4]
C 23
C 22/82 . Nabehandelen
[4]
C 23
C 22/83 . . Chemisch nabehandelen [4]
C 23 C 22/84 . . Verven
[4]
C 23
C 22/86 . Regenereren
van coatingbaden [4]
C 23
C 24/00 Coaten uitgaande van anorganisch poeder
(versproeien van het coatingmateriaal in gesmolten toestand C23C 4/00;
vastestofdiffusie C23C 8/00 tot C23C 12/00) [4,18]
C 23
C 24/02 . door het
uitoefenen van alleen druk [4]
C 23
C 24/04 . . Inslag of kinetische afzetting van deeltjes [4]
C 23
C 24/06 . . Comprimeren van poedervormig
coatingmateriaal, bijv. door vermalen [4]
C 23
C 24/08 . door het
aanbrengen van warmte of van druk en warmte (C23C 24/04 heeft voorrang) [4]
C 23
C 24/10 . . met tussentijdse vorming van een vloeibare
fase in de laag [4]
C 23
C 26/00 Coaten dat niet valt onder de groepen C23C 2/00
tot C23C 24/00 [4]
C 23
C 26/02 . waarbij
gesmolten materiaal op het substraat wordt aangebracht [4,18]
C 23
C 28/00 Coaten voor het verkrijgen van tenminste twee op
elkaar liggende coatings door ofwel methoden welke niet vallen onder één van de
hoofdgroepen C23C 2/00 tot C23C 26/00 ofwel door combinaties van methoden welke
vallen onder de subklassen C23C en C25D [4,12]
C 23
C 28/02 . alleen
coatings van metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 28/04 . alleen
coatings van een anorganisch niet-metaalachtig materiaal [4]
C 23
C 30/00 Coaten met metaalachtig materiaal dat wordt
gekenmerkt door alleen de samenstelling van het metaalachtig materiaal, d.w.z.
niet gekenmerkt door het coatingproces (C23C 26/00 en C23C 28/00 hebben voorrang) [4]